Установка плазменной очистки и активации поверхности модели COVANCE (*конфигурация COVANCE-3MPR) с PLC контролем производства компании Femto Science (Ю. Корея). Установка готова к отгрузке нашим заказчикам в самые кратчайшие сроки.
Применение: очистка, удаление органики с поверхности, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Установка плазменной очистки и активации поверхности модели COVANCE (*конфигурация COVANCE-3MPR) с PLC контролем производства компании Femto Science (Ю. Корея). Установка готова к отгрузке нашим заказчикам в самые кратчайшие сроки.
Применение: очистка, удаление органики с поверхности, активация, травление (мелкосерийные процессы)
УФ лампа для установок фотолитографии USHIO USH-350DS. (Япония)
УФ лампа для установок фотолитографии USHIO USH-350DS. (Япония)
Установка бесконтактного измерения удельного сопротивления слоев, модель «EddyCus® TF lab 2020.
Применение:
Архитектурное стекло (LowE)
Дисплеи, сенсорные экраны
OLED и LED применения
Смарт-стекла
Графеновые слои
Фотовольтаика
Полупроводниковые пластины
Слои метализации
Слои для борьбы с обледенением
Электроды батарей
Упаковочная пленка или фольга
Проводящая бумага и проводящий текстиль
Измеряемые параметры:
Поверхностное сопротивление R_sq [Ом/квадрат]
Толщина металлических слоев [мкм, нм]
Инфо-тип (Emissivity) (e)
Установка бесконтактного измерения удельного сопротивления слоев, модель «EddyCus® TF lab 2020.
Применение:
Архитектурное стекло (LowE)
Дисплеи, сенсорные экраны
OLED и LED применения
Смарт-стекла
Графеновые слои
Фотовольтаика
Полупроводниковые пластины
Слои метализации
Слои для борьбы с обледенением
Электроды батарей
Упаковочная пленка или фольга
Проводящая бумага и проводящий текстиль
Измеряемые параметры:
Поверхностное сопротивление R_sq [Ом/квадрат]
Толщина металлических слоев [мкм, нм]
Инфо-тип (Emissivity) (e)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
