
Установка плазменной очистки и активации поверхности при атмосферном давлении (Китай). Установка готова к отгрузке нашим заказчикам в самые кратчайшие сроки.
Применение: очистка, удаление органики с поверхности, активация
Установка плазменной очистки и активации поверхности при атмосферном давлении (Китай). Установка готова к отгрузке нашим заказчикам в самые кратчайшие сроки.
Применение: очистка, удаление органики с поверхности, активация
Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC
Eplec-RC - установки четырехзондового измерения (4-point probe) - измерение удельного и поверхностного сопротивления четырехзондовым методом на полупроводниковых пластинах Si, GaAs, InP, Ge, SiC, Сапфира и др. производства PLSINTEC CORPORATION (Китай).
Измерение (картирование) на пластинах диаметром от 52 мм (2") до 200 мм (8") и толщиной до 4 мм.
Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC
Eplec-RC - установки четырехзондового измерения (4-point probe) - измерение удельного и поверхностного сопротивления четырехзондовым методом на полупроводниковых пластинах Si, GaAs, InP, Ge, SiC, Сапфира и др. производства PLSINTEC CORPORATION (Китай).
Измерение (картирование) на пластинах диаметром от 52 мм (2") до 200 мм (8") и толщиной до 4 мм.
Напольные антивибрационные платформы DAEIL SYSTEMS (Корея) с активной виброизоляцией серии DVIA-ML1000 для SEM и тяжеловысных приборов.
Применение: виброизоляция электронных микроскопов, FIB, профилометров, ОЖЭ и других тяжеловысных приборов.
Нагрузка до 1500кг.
Напольные антивибрационные платформы DAEIL SYSTEMS (Корея) с активной виброизоляцией серии DVIA-ML1000 для SEM и тяжеловысных приборов.
Применение: виброизоляция электронных микроскопов, FIB, профилометров, ОЖЭ и других тяжеловысных приборов.
Нагрузка до 1500кг.