Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Примеры применения по отраслям...
Камера: цилиндрическая, 10,5 литра
Вакуумный насос: 3 или 5 м3/час
Ганератор 40 кГц, до 100 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт. (игольчатые глапана или MFC)
| Тип установки | плазма низкого давления |
| Вакуумная камера | цилиндрическая, около 10,5 литров: Ø 211 mm, глубина 300 мм |
| Материал камеры | Боросиликатное стекло или кварцевое стекло |
| Подвод газа | до 2-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC |
| Генератор плазмы | 40 кГц, 200 Вт 13,56 МГц, 200 Вт (автоматическое согласование) |
| Контроль | Ручной PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC |
| Производительность вакуумного насоса |
сухой насос, 3 до 5 м3/ час |
| Подключение | 220 В, 50 Гц |
Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).
Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:
- ожидаемое количество проходящего материала
- величина обрабатываемых деталей
Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).
Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:
- ожидаемое количество проходящего материала
- величина обрабатываемых деталей
Напольные установки плазменной очистки низкого давления модели COWIN производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с индивидуальной компановкой и различными размерми камеры.
Применение: Исследовательские работы и промышленное производство, очистка, активация, травление (мелкосерийные и круаносерийные процессы)
Process Mode: PE (Plasma Etching) / RIE (Reactive Ion Etching) / dual RIE/PE Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 330 x 350 x 340 (мм) или БОЛЕЕ по запросу заказчика
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 1000 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт. или 600Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Напольные установки плазменной очистки низкого давления модели COWIN производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с индивидуальной компановкой и различными размерми камеры.
Применение: Исследовательские работы и промышленное производство, очистка, активация, травление (мелкосерийные и круаносерийные процессы)
Process Mode: PE (Plasma Etching) / RIE (Reactive Ion Etching) / dual RIE/PE Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 330 x 350 x 340 (мм) или БОЛЕЕ по запросу заказчика
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 1000 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт. или 600Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт.
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт.
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
