Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 8 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Применение:
Микроэлектроника
Нанотехнологии и 2D материаллы
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Вакуумный насос
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт. (MFC)
Тип установки | плазма низкого давления |
Вакуумная камера | прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм) |
Материал камеры | Алюминий |
Подвод газа | до 4-х газовых линий с MFC - Max.200 sccm (1 sccm шаг) |
Генератор плазмы | 20-100 кГц, с шагом 10 кГц можность до 300Вт, шаг 1 Вт. |
Контроль | Ручной или автоматический 7" тач дисплей, PLC |
Размеры |
|
Подключение | 220 В, 50 Гц |
Установка плазменной очистки низкого давления модели COGRADE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели COGRADE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 250 x 300 x 200 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия).
Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).
Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)
Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.
Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия).
Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).
Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)
Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.
Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м3/час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м3/час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)