+7 (495) 909-89-53

Процессы вакуумного напыления (Application)

Резистивное термическое испарение (resistive evaporation)

Резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation).

Использование электрической энергии для нагрева катода, который в свою очередь нагревает распыляемый материал до температуры испарения.

Магнетронное распыление (magnetron sputtering)

Магнетронное напыление (sputter deposition).

Столкновение высокоэнергетических частиц содержащихся в плазме эмитируют атомы с поверхности материала мишени, которые конденсируются на поверхности подложки создавая пленку на подложке.

Электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)

Электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)

Катод эмитирует сфокусированный магнитным полем высоко энергетический пучок, который попадая на материал в тигле уносит с тигля напыляемый материал, осаждаемый на подложку.

Ионное асистирование (ion-assisted deposition)

Ионное напыление (ion-assisted deposition).

Широкий луч от ионного источника направляется прямо на подложку обычно совместно с магнетронным или электронно-лучевым напылением.

 

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее