Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Примеры применения по отраслям...
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт. (игольчатые глапана или MFC)
| Тип установки | плазма низкого давления |
| Вакуумная камера | цилиндрическая, около 5 литров: Ø 130 мм, глубина 300 мм прямоугольная, около 8 литров: 160 х 160 х 325 мм |
| Материал камеры | Боросиликатное стекло или кварцевое стекло или нержавеющая сталь |
| Подвод газа | до 3-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC |
| Генератор плазмы | 40 кГц, до 200 Вт 13,56 МГц, до 300 Вт 2,45 ГГц, до 300 Вт |
| Контроль | Ручной PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC |
| Производительность вакуумного насоса | сухой насос или лопастной по выбору |
| Подключение | 220 В, 50 Гц или 400В, 3 фазы (в зависимости от конфигурации) |
Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).
Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:
- ожидаемое количество проходящего материала
- величина обрабатываемых деталей
Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).
Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:
- ожидаемое количество проходящего материала
- величина обрабатываемых деталей
Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)