+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки Pico

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico Pico_2Pico_3Pico_4Pico_5Pico_6Pico_7pcce_main_encontrol_pc.gif

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).

Применениеочистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Примеры применения по отраслям...

  • мелкосерийное производство
  • аналитика (SEM, TEM)
  • медицина
  • стерилизация
  • исследования
  • археология
  • обработка текстиля
  • полупроводники
  • обработка пластиков

Особенности

  • Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров

  • Вакуумный насос на выбор

  • Датчик давления Pirani (опция)
  • Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.

  • Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)

  • Газовые линии - до 3 шт. (игольчатые глапана или MFC)

Скачать брошюру Pico в PDF

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера цилиндрическая, около 5 литров: Ø 130 мм, глубина 300 мм
прямоугольная, около 8 литров: 160 х 160 х 325 мм
Материал камеры Боросиликатное стекло или кварцевое стекло или нержавеющая сталь
Подвод газа до 3-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC
Генератор плазмы 40 кГц, до 200 Вт
13,56 МГц, до 300 Вт
2,45 ГГц, до 300 Вт
Контроль Ручной 
PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC
PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC
Производительность вакуумного насоса сухой насос или лопастной по выбору
Подключение 220 В, 50 Гц или 400В, 3 фазы (в зависимости от конфигурации)

Видеопрезентация установки Pico


Видеопрезентация фирмы Diener



Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки Pico

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки Femto

Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 2 шт
Установка плазменной очистки Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт. 
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт. 
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 3 шт
Установка плазменной очистки COVANCE-RF от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE-RF производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Dual Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5×100-5 Torr 

Ганератор:

  • 13.56 МГц, до 300 Вт (опционально до 600 Вт)

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE-RF производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея)

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Dual Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5×100-5 Torr 

Ганератор:

  • 13.56 МГц, до 300 Вт (опционально до 600 Вт)

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)