Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста
Примеры применения по отраслям...
Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт. (игольчатые глапана или MFC)
| Тип установки | плазма низкого давления |
| Вакуумная камера | цилиндрическая, около 2 литров: Ø 95 мм, глубина 280 мм прямоугольная, около 2 литров: 103 х 285 х 103 мм |
| Материал камеры | Боросиликатное стекло или кварцевое стекло или нержавеющая сталь |
| Подвод газа | до 3-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC |
| Генератор плазмы | 40 кГц, до 200 Вт 13,56 МГц, до 300 Вт 2,45 ГГц, до 300 Вт |
| Контроль | Ручной PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC |
| Производительность вакуумного насоса |
сухой насос или лопастной по выбору |
| Подключение | 220 В, 50 Гц или 400В, 3 фазы (в зависимости от конфигурации) |
Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 4 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 140 x 200 x 110 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 100 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 3 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия).
Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).
Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)
Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.
Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия).
Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).
Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)
Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
