+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки COVANCE-RF от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE от FEMTO SCIENCE

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE-RF производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея). 

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Dual Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5×100-5 Torr 

Ганератор:

  • 13.56 МГц, до 300 Вт (опционально до 600 Вт)

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Применение: 
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков

Особенности

  • Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)

  • Вакуумный насос

  • Датчик давления Pirani
  • Ганератор: 13.56 МГц, до 300 Вт  (опционально до 600 Вт)

  • Управление: ручное или автоматическое (PLC)

  • Газовые линии - до 4 шт. (MFC)

Скачать брошюру COVANCE в PDF

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Материал камеры Алюминий 
Подвод газа до 4-х газовых линий с MFC - Max. 200 sccm (1 sccm шаг)
Генератор плазмы
  • 13.56 МГц, до 300 Вт (опционально до 600 Вт), автоматическое согласование
Контроль Ручной или автоматический
7" тач дисплей, PLC
Размеры
  • корпус : 510×525×640 (W×D×H, mm)
  • вакуумны насос : 480×160×250 (W×D×H, mm)
Подключение 220 В, 50 Гц

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки COVANCE-RF от Femto Science (Корея)

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки Pico

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия). 

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия). 

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 15 шт
Установка плазменной очистки COVANCE от Femto Science (Корея)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея). 

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея). 

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr 
Ганератор:

  • 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 200 Вт.
  • 13.56 МГц, до 300 Вт 

Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 9 шт
Установка плазменной очистки Tetra 2800

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия). 

Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)

Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия). 

Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)

Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.