+7 (495) 909-89-53

Raith 150 TWO

Micro_GaAscontin_struct5nm_line

RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.

RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.

RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.

RAITH150-TWO позволяет осуществлять литографирование с ультра-высоким разрешением и при этом проводить обработку пластин размером вплоть до 8 дюймов и масок вплоть до 7 дюймов. Cтабильность параметров системы и применение методов автоматической корректировки (дрейфа, фокусировки) позволяет осуществлять длительную работу с образцами как малой, так и большой площади поверхности. RAITH150-TWO обеспечивает выполнение самых сложных литографических задач с максимально высокой точностью и воспроизводимостью: сшивка и выравнивание полей экспонирования, многослойная литография с высокоточным наложением (включая метод mix&match), задачи типа step&repeat, бесшовное рисование объектов с высоким аспектным соотношением – например, световодов для волновой оптики шириной в десятки нанометров и длиной до нескольких сантиметров – и периодических структур – например, массивов фотонных кристаллов – с помощью уникальных технологий рисования высокоточным столиком при неподвижном пучке и рисования столиком с определенной модуляцией пучка. 

Особенности

  • Высокая стабильность электронно-оптической колонны (стабильность пучка по току, по дрейфу); точность позиционирования 1 нм лазерного интерферометрического стола
  • Широкие возможности по автоматизации и контролю основных параметров при длительном (дни) экспонировании, высокая точность наложения при многослойной литографии и сшивке полей экспонирования (гарантированное среднее значение ошибки, плюс, 3 стандартных отклонения - менее 35 нм; по тестам приемки точность сшивки обычно составляет 15-20 нм), быстрый генератор развертки 20 МГц, гибкость в подборе параметров экспонирования, полная интегрированность (экспонирование, контроль перемещения, CAD и т.д.), максимальное удобство и ориентированность на пользователя программного обеспечения; многопользовательский интерфейс; возможности (опционально) по бесшовному литографированию протяженных и периодических структур; гибкость в настройках электронно-оптической колонны; колонна класса GEMINI; гибкость применения системы расширенный функционал литографа (режимы получения РЭМ-изображений, литографирование по изображению, коррекция эффекта близости, экспонирование элементов по различной траектории растра пучка и т.д.); сниженные требования к температурной стабильности в помещении; интегрируемость в помещения чистых комнат, в том числе, с раздельной установкой загрузочной камеры в чистом помещении и основной системы – в «сером» помещении; полностью сухая вакуумная система. 
  • Основные блоки, а также все программное обеспечение систем компании Raith разрабатывается и производится на единой фабрике в Германии. На территории РФ осуществляется сервисная поддержка. Проводятся также регулярные встречи Raith пользователей оборудования для обмена опытом.

  • Программное обеспечение: Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контроль позиционирования в системе координат образца, скриптинг, автоматизация, “DirectAlignDesign”, “Flexposure”, коррекция эффекта близости, литография в 3D
Скачать брошюру продуктов RAITH в PDF

Характеристики

Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения - 150х150х20 мм
- Точность сшивки полей и наложения полей на больших площадях <35 нм (среднее значение + 3 сигма)
- Точность позиционирования 1 нм
Электронно-оптическая колонна - Автоэмиссионный катод Шоттки, диаметр пятна зонда <2 нм
- Колонна без кроссоверов (т.е. без пересечений траекторий лучей пучка): низкие аберрации, высокая плотность тока зонда (> 7 500 A/cm2), высокое пространственное разрешение как при высоких, так и при низких ускоряющих напряжениях
- Внутрилинзовый детектор вторичных электронов
- Метрологические возможности и получение РЭМ-изображений при ускоряющих напряжениях в то числе менее 1 кВ
- Долговременная стабильность тока пучка (<0,5% / 8 часов)
- Непревзойденная точность позиционирования луча на образц
Энергия пучка 100 эВ – 300 кэВ
Зондовый ток 5 пА – 20 нА
Режимы и характеристики  - Полная автоматизация всех операций, автоматическое выравнивание плоскости фокуса, коррекция дрейфа, e-mail отчет текущего статуса процесса
GDSII; импорт форматов AutoCAD DXF, ASCII, CIF
- “DirectAlignDesign”
- “Flexposure”
- коррекция эффекта близости
- литография и 3D
Минимальный размер получаемой структуры/линии < 10 нм

Генератор развертки

20 МГц

Доп оборудование

  • Система газовой химии на 5 линий. Полный спектр газообразных реактивов-прекурсоров.
  • Энерго-дисперсионная спектроскопия (EDX)
  • Внутрилинзовый детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по энергии (EsB)
  • Четырех-секционный детектор обратно-рассеянных электронов с селекцией по углу (AsB)
  • Плазменная очистка камеры образца
  • Система автоматического выравнивания плоскости фокуса
  • Модуль наклона и поворота образца
  • Активная платформа виброподавления

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Новости

Все новости

Система плазменной очистки ATTO с нашего склада в Москве

Подробнее

Международная выставка испытательного и контрольно-измерительного оборудования Testing & Control

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецким специалистом по метрологии SURAGUS

Подробнее

Новая установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+

Подробнее

МИНАТЕХ начинает сотрудничество с немецкой компанией Accurion GmbH

Подробнее

Процесс совмещения на установках MLA от HIMT

Подробнее

Новый компактный 3D профилометр-конфокальный микроскоп S lynx от SENSOFAR

Подробнее

SENTECH анонсировал новую серию спектроскопических эллипсометров SENresearch 4.0.

Подробнее