+7 (495) 909-89-53

Установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD)

технология вакуумного напыления фото two-reticle-systems_ion-beam-sputter-deposition-ibsd-targetIon-beam-cleaning-and-assistibsd-ion-etch-source

Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.

Технология ионно-лучевого распыления (IBSD) заключается в бомбардировке мишени заданного состава пучком ионов с энергией до 1200 эВ с последующим осаждением распыленного материала на подложку. При этом стехиометрия формируемого покрытия идентична мишени.

This is an ideal system for applications such as antireflective (AR) coatings, highly reflective (HR) coatings, coatings for laser diode bars, telecom optical filters, as well as vanadium oxide deposition

Angstrom разработал платформу Reticle (IBSD), которая предоставляет сообществу оптиков возможность создавать пленки с отличной чистотой, плотностью и однородностью, при очень высокой повторяемости и автоматизации. Ritecle - идеальная система для таких применений как, просветляющие покрытия (AR), высокоотражающие покрытия (HR), покрытия для диодных лазерных линеек, телекоммуникационные оптические фильтры, а также осаждение оксида ванадия.

Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.   

Вакуумный загрузочный шлюз

Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)

Особенности

  • Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 200 мм (или меньшего размера) с заданием различной скорости вращения держателя
  • Продвинутая система управления на базе ПК.

  • ICP-RF ионный источник для распыления + End-Hall ионный источних для ассистирования и очистки подложек.
  • Высокий и ультра высоковакуумная система откачки
  • до 8 источников распыления мишеней для напыления многослойных пленок
  • Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция).
  • Подложкодержатель с изменией угла (до 90o)
  • Опционально вакуумный загрузочный шлюз
  • Оптический контроль толщины и скорости роста пленки Apex 
  • In-situ эллипсометрия или кварцевые датчики
  • Управление процессом осаждения Areas

Скачать брошюру в PDF

Видеопрезентация компании Angstrom Engineering

Видеопрезентация GLAD держатель

Видеопрезентация - кассетная станция

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD)

Также Вас может заинтересовать
Процессы вакуумного напыления (Application)

- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)

- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)

Установка напыления NexDep

Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диаметром до 200 мм или до 100х100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диаметром до 200 мм или до 100х100 мм.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) 
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)

Уже установлено в России и СНГ: 3 шт
Установка магнетронного распыления линейного типа (Linear sputter system)

Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п. 

Загрузка из кассеты в кассету
до 3-х прямоугольных магнетронов
Ионный источник для очистки
Нагрев 
кварцевый контроль (QCM)

Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)

Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п. 

Загрузка из кассеты в кассету
до 3-х прямоугольных магнетронов
Ионный источник для очистки
Нагрев 
кварцевый контроль (QCM)

Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)