Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.
Технология ионно-лучевого распыления (IBSD) заключается в бомбардировке мишени заданного состава пучком ионов с энергией до 1200 эВ с последующим осаждением распыленного материала на подложку. При этом стехиометрия формируемого покрытия идентична мишени.
This is an ideal system for applications such as antireflective (AR) coatings, highly reflective (HR) coatings, coatings for laser diode bars, telecom optical filters, as well as vanadium oxide deposition
Angstrom разработал платформу Reticle (IBSD), которая предоставляет сообществу оптиков возможность создавать пленки с отличной чистотой, плотностью и однородностью, при очень высокой повторяемости и автоматизации. Ritecle - идеальная система для таких применений как, просветляющие покрытия (AR), высокоотражающие покрытия (HR), покрытия для диодных лазерных линеек, телекоммуникационные оптические фильтры, а также осаждение оксида ванадия.
Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.
Вакуумный загрузочный шлюз
Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)
Продвинутая система управления на базе ПК.
Управление процессом осаждения Areas
- резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
- магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
- электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
- ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диаметром до 200 мм или до 100х100 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диаметром до 200 мм или до 100х100 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п.
Загрузка из кассеты в кассету
до 3-х прямоугольных магнетронов
Ионный источник для очистки
Нагрев
кварцевый контроль (QCM)
Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п.
Загрузка из кассеты в кассету
до 3-х прямоугольных магнетронов
Ионный источник для очистки
Нагрев
кварцевый контроль (QCM)
Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)