Установки MDA-40FA / MDA-80FA / MDA-12FA производства MIDAS SYSTEM (Корея) - новые модели представляющуе новое поколение полностью автоматических систем литографии.
Новая платформа автоматической модели предлагает более высокие точности и более легкое управление. Идеальное решение для производства LED и других технологиях (MEMS, оптоэлектроника, FPD панели, ВЧ устройства, flip chip устройства) требующих высокой точности совмещения.
Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость.
По запросу опция обратного совмещения с CCD камерой.
Обработка пластин до 50, 100 мм / 150, 200мм. / 200, 300 мм.
Полностью автоматическое совмещение, автоматическое экспонирование
Автоматическое совмещение
Автоматическая фокусировка
Автоматическая загрузка/выгрузка пластин (из кассеты в кассету)
Удаленное управление
Подключение к роботу
Короткое время обработки одного цикла
Производительность 100 пластин в час.
Высокое качество и сравнительно низкая цена
Монитор с точскрином
Прецизионная точность совмещения 1 мкм
Многофункциональный держатель пластин и подложек до 4’’ / 12". Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)
Прецизионный столик для совмещения и микроскоп
Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования
Операции с помощью компьютера.
Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках
Антивибрационная система
Эргономичный дизайн для удобного использования
| Установка | MDA-40FA | MDA-80FA |
| Мощность лампы |
УФ источник света с мощностью 350 или 500 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения. |
УФ источник света с мощностью 2 кВт с контролем интенсивности и мощности излучения. |
| Размер подложки |
кусочки, пластины до 6 дюймов |
кусочки, пластины до 8 дюймов |
| Точность предварительного совмещения |
+/-50 мкм |
+/-50 мкм |
| Точность совмещения | 1 микрон | 1 микрон |
| Разрешение | 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом | 1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом |
| Размер маски | до 7 х 7 дюймов | до 9 х 9 дюймов |
| УФ лампа | 350 или 500 Вт. или UV LED модуль 365 нм. |
2 кВт |
| Диапазон длин волн засветки | 350-450 нм, или другие по запросу. | 350-450 нм, или другие по запросу. |
| Размер однородного пучка | 6,25" х 6,25" | 10,25" х 10,25" |
| Оптическое зрение (микроскоп) | Микроскоп двойного поля, CCD камера | Микроскоп двойного поля, CCD камера |
| Однородность пучка | < +/-3% | < +/-5% |
| Интенсивность излучения при длине волны 365 нм | Максимальная 25 мВт/см2 | Максимальная 25 мВт/см2 (2 кВт) |
| Режим управления | с ПК (PLC контроль) | с ПК (PLC контроль) |
| Регулируемое время экспонирования | 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс. | 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс. |
| Совмещение подложек | Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 4°). Z и θ моторизованы. Вес подложек до 2 кг. |
Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм или другой по запросу) и по углу θ (± 4°). Z и θ моторизованы. Вес подложек до 2 кг. |
| Выравнивание | Компенсация ошибки клина Автоматическое определение края - датчик давления |
Компенсация ошибки клина Автоматическое определение края - датчик давления |
| Методы экспонирования | Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО. | Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм) регулируемое с помощью ПК и специального ПО. |
| Опции |
CCD BSA - обратное совмещение с помошью CCD камеры, |
CCD BSA - обратное совмещение с помошью CCD камеры, |
Бюджетная установки MDA-600LJ производства MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением применяется для технологий изготовления MEMS, оптоэлектроники и др. MDA-600LJ - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР и для малых объемов производства.
Точность совмещения 1 мкм.
Обработка пластин до 150 мм. (до 6 дюймов)
Ручное совмещение и ручное экспонирование.
Бюджетная установки MDA-600LJ производства MIDAS SYSTEM (Корея) с ручным управлением применяется для технологий изготовления MEMS, оптоэлектроники и др. MDA-600LJ - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР и для малых объемов производства.
Точность совмещения 1 мкм.
Обработка пластин до 150 мм. (до 6 дюймов)
Ручное совмещение и ручное экспонирование.
Новая полуавтоматическая установка MDA-600S производства MIDAS SYSTEM (Корея) прекрасный инструмент для использования в таких применениях как MEMS, оптоэлектроника, FPD панели, ВЧ устройства, flip chip устройства, LED и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость.
Новая полуавтоматическая установка MDA-600S производства MIDAS SYSTEM (Корея) прекрасный инструмент для использования в таких применениях как MEMS, оптоэлектроника, FPD панели, ВЧ устройства, flip chip устройства, LED и других технологиях требующих высокой точности совмещения. Установки имеют более высокую точность совмещения и более высокую гибкость.
Установка MDA-400M производства MIDAS SYSTEM (Корея) с полностью ручным управлением широко применяется для технологий изготовления MEMS, LED, полупроводников и др. MDA-400M - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства
Точность совмещения 1 мкм.
Обработка пластин до 100 мм.
Максимальный размер фотошаблона 127х127 мм (5х5 дюймов)
Ручное совмещение и автоматическое экспонирование
Установка MDA-400M производства MIDAS SYSTEM (Корея) с полностью ручным управлением широко применяется для технологий изготовления MEMS, LED, полупроводников и др. MDA-400M - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства
Точность совмещения 1 мкм.
Обработка пластин до 100 мм.
Максимальный размер фотошаблона 127х127 мм (5х5 дюймов)
Ручное совмещение и автоматическое экспонирование
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
