Установка DLI-CVD и MOCVD модели MC-050 от ANNEALSYS (Франция)

Бюджетная установка для процессов DLI-CVD и MOCVD модели MC-050 производства ANNEALSYS (Франция) для исследований и НИОКР на подложках диаметром до 2-ух дюймов. осаждение и отжиг можно производить в одной камере.
(DLI - Direct Liquid Injection)

Применение:
- DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD, SprayCVD, RTA, RTO, in-situотжиг
- Металлы и сплавы, оксиды, нитриды,
- Нанатрубки и нанопровода…
 

- Полупроводники: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...
- Нитриды и сплавы: GaN, AlN, GaAs, GaAsN...
- Диэлектрики с высоким k: SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)
- Ферроэлектрики: SBT, SBTN, PLZT, PZT,…
- Сверхпроводники: YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, …
- Пьезоэлектрики: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, Модифицированный титанат свинца с колоссальным магнитным сопротивлением
- Металлы: Pt, Cu,...
- Термические покрытия
- Буфферные слои
- Механические покрытия
- Оптика

Особенности

• Ручная загрузка

• Установка MC-050 - установка для проведения DLI-CVD, MOCVD процессов на пластинах до 2-ух дюймов для исследований и НИОКР

• MC-050 позволяет проводить процесс гетороэпитаксии оксидов на пластине монокристаллического кремния с помощью MOCVD с использованием большого числа твердых, жидких металлоорганических прекурсоров.

• Система MC-050 может обеспечивать прямую инжекцию из аэрозольного аппарата позволяющего получать широкий круг прекурсоров для разработки новых материалов. Инфракрасная лампа используется для обеспечения процессов in-situ отжига в камере для осаждения.

• Высокая скорость нагрева до 200°C/сек для пластины в 2 дюйма
• Компактная напольная конфигурация для экономии места
• Высокая надежность и низкая стоимость владения
• Высокая воспроизводимость процесса
• Высокая скорость охлаждения и низкий эффект памяти
• Вакуумная версия (10-3 Торр) 
• Пирометр и термопара для контроля температуры
• Быстрый цифровой контроллер температуры PID
• До 6-ти газовых линий и до 6-ти инжекторов подачи прекурсоров