RAITH150-TWO производства RAITH (Германия) – это электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, рассчитанный на работу с пластинами и масками вплоть до 7-8 дюймов, который предназначен для центров коллективного пользования и опытно конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.
RAITH150-TWO является нанотехнологическим инструментом новейшего поколения и создан специально, чтобы отвечать современной динамике требований в нанотехнологиях. RAITH150-TWO позволяет объединить научные исследования, разработку устройств и мелкосерийное производство в условиях комплексной автоматизации, максимальной воспроизводимости результатов, максимальной скорости работы и расширенного функционала. Простота в обращении, низкая стоимость эксплуатационных затрат, умеренные требования к условиям помещения и небольшой размер занимаемой площади делают RAITH150-TWO производительным и высокоэффективным оборудованием для электронно-лучевой литографии, навигации по пластинам и сканирования чипов с высоким разрешением.
RAITH150-TWO – это мост между научными исследованиями, разработками и мелкосерийным производством.
RAITH150-TWO позволяет осуществлять литографирование с ультра-высоким разрешением и при этом проводить обработку пластин размером вплоть до 8 дюймов и масок вплоть до 7 дюймов. Cтабильность параметров системы и применение методов автоматической корректировки (дрейфа, фокусировки) позволяет осуществлять длительную работу с образцами как малой, так и большой площади поверхности. RAITH150-TWO обеспечивает выполнение самых сложных литографических задач с максимально высокой точностью и воспроизводимостью: сшивка и выравнивание полей экспонирования, многослойная литография с высокоточным наложением (включая метод mix&match), задачи типа step&repeat, бесшовное рисование объектов с высоким аспектным соотношением – например, световодов для волновой оптики шириной в десятки нанометров и длиной до нескольких сантиметров – и периодических структур – например, массивов фотонных кристаллов – с помощью уникальных технологий рисования высокоточным столиком при неподвижном пучке и рисования столиком с определенной модуляцией пучка.
Основные блоки, а также все программное обеспечение систем компании Raith разрабатывается и производится на единой фабрике в Германии. На территории РФ осуществляется сервисная поддержка. Проводятся также регулярные встречи Raith пользователей оборудования для обмена опытом.
Лазерный интерферометрический стол и точность сшивки/наложения | - 150х150х20 мм - Точность сшивки полей и наложения полей на больших площадях <35 нм (среднее значение + 3 сигма) - Точность позиционирования 1 нм |
Электронно-оптическая колонна | - Автоэмиссионный катод Шоттки, диаметр пятна зонда <2 нм - Колонна без кроссоверов (т.е. без пересечений траекторий лучей пучка): низкие аберрации, высокая плотность тока зонда (> 7 500 A/cm2), высокое пространственное разрешение как при высоких, так и при низких ускоряющих напряжениях - Внутрилинзовый детектор вторичных электронов - Метрологические возможности и получение РЭМ-изображений при ускоряющих напряжениях в то числе менее 1 кВ - Долговременная стабильность тока пучка (<0,5% / 8 часов) - Непревзойденная точность позиционирования луча на образц |
Энергия пучка | 100 эВ – 300 кэВ |
Зондовый ток | 5 пА – 20 нА |
Режимы и характеристики | - Полная автоматизация всех операций, автоматическое выравнивание плоскости фокуса, коррекция дрейфа, e-mail отчет текущего статуса процесса GDSII; импорт форматов AutoCAD DXF, ASCII, CIF - “DirectAlignDesign” - “Flexposure” - коррекция эффекта близости - литография и 3D |
Минимальный размер получаемой структуры/линии | < 10 нм |
Генератор развертки |
20 МГц |
Доп оборудование |
|
Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм
EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.
Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.
Установки электронно-лучевой литографии серии Raith EBPG5150 / EBPG 5200 производства RAITH (Германия) – высокопроизводительные электронно-лучевой литографы, рассчитанные на работу с пластинами до 150 и до 200 мм
EBPG – это установки мирового стандарта качества, которая зарекомендовала себя и является предпочтительным выбором заказчиков как в серийном производстве в микроэлектронике, так и в ведущих научно-исследовательских центрах компетенции университетского уровня.
Эволюционная технология EBPG представляет пользователям наиболее мощный и современный из существующих на рынке приборов нанолитографии гауссовым пучком. Высокие показатели спецификации и эффективность работы являются результатом многолетней эволюции серии EBPG и внедрения обратной связи пользователей для максимальной оптимизации технологии. Стабильность, высокая производительность и возможность апгрейда EBPG обеспечивают заказчику гарантию надежного инвестирования, готовность и передовую позицию в производстве сегодняшнего дня и разработке технологий будущего.
e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.
С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.
e_LiNE plus (“Lithography and NanoEngineering”) производства RAITH (Германия) – это система «под ключ», которая объединяет в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. e_LiNE plus предназначен для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.
С e_LiNE plus инновационные исследования получают доступ к кластерному научно-исследовательскому прибору с расширяемым потенциалом, объединяющим литографию, наноконструирование, изображение с ультра-высоким разрешением и микроанализ. e_LiNE plus – единственная система, сочетающая в себе классическую нанолитографическую рабочую станцию и возможности реализации разнообразных многоцелевых приложений без компромисса относительно самых передовых показателей производительности нанолитографа. Безотносительно расширенных возможностей, e_LiNE plus обеспечивает самое эффективное выполнение разработческих задач литографирования и сканирования пластин.
VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.
Работа на подложках до 200 мм.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения
VOYAGER производства RAITH (Германия) – это новый прибор класса высокопроизводительных электронно-лучевых литографов, построенный на инновационной технологии Raith eWrite.
Работа на подложках до 200 мм.
Рекомендован в областях, связанных как с серийным производством, так и с научно-исследовательскими работами, где требуется высокая производительность и максимум пространственного разрешения. Инновационная архитектура и высокие показатели спецификации разработаны для получения точных результатов при высокой скорости экспонирования и при весьма низкой стоимости владения прибором. VOYAGER, таким образом, снижает барьер для доступа в сферу профессиональной, ориентированной на высокую производительность электронно-лучевой литографии.
VOYAGER – первая система, в которой реализована новая технология Raith eWrite. eWrite объединяет в себе специализированную «выделенную» архитектуру электронно-лучевой колонны и паттерн-генератора, позволяющую осуществлять автоматизацию калибровок системы и высокую скорость при серийном производстве.
Концепцию VOYAGER подчеркивает:
- инновационная архитектура системы
- сниженные требования к условиям эксплуатации в помещении и малое занимаемое пространство
- производительность экспонирования более 1 см2/час
- невысокая стоимость владения