+7 (495) 909-89-53

Установки SRD отмывки и сушки пластин и фотошаблонов Semiclean

Установка SRD Semiclean для отмывки пластин 200 мм, Автоматическая сушка фотошаблонов в чистой комнате Отмывка и сушка пластин 100ммSRD_single chamber spin rinse drySRD

Системы SRD-отмывки и сушки Semiclean (Китай).

Установки Spin Rinsing Drying (SRD) от Semiclean предназначены для высокоточной отмывки и сушки кремниевых пластин и фотошаблонов в процессе производства микроэлектроники. Оборудование обеспечивает чистоту поверхности на уровне, соответствующем требованиям современных технологических процессов.

Системы SRD-отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Корпус установок SRD изготовлен из полипропилена и нержавеющей стали устойчивых к воздействию используемой в технологических процессах химии. Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм, 150 мм и 200мм, фотошаблоны 76х76 мм, 102х102 мм, 127х127 мм, 178х178 мм. 

Для управления процессом используется сенсорный дисплей. На панели отображается время процесса, скорость привода, показывается текущий шаг процесса. Время процесса может быть выбрано. Промывка деионизованной водой может быть контролируема по времени или по датчику сопротивления. После этого запускается сушка холодным (не нагретым) азотом, далее сушка нагретым азотом в течении заданного промежутка времени. Весь процесс автоматически контролируется встроенным контроллером PLC (programmable logic сontroller), в течении этого времени, обороты привода регулируются для подбора оптимального режима сушки пластин.

Ключевые преимущества

✔ Высокая степень очистки – удаление частиц, органических и ионных загрязнений
✔ Бережная сушка – без разводов и повреждений поверхности
✔ Автоматизация процессов – снижение влияния человеческого фактора
✔ Надежность и долговечность – стабильная работа в производственных условиях
✔ Совместимость с пластинами различных диаметров (до 300 мм)

Область применения

  • Производство полупроводников
  • Фотолитография (очистка фотошаблонов)
  • Исследовательские лаборатории
  • Микроэлектроника и MEMS
  • Производство пластин (Si, SiC, GaN, GaAs, Ge, Сапфир, InP и др)

Особенности

  • Высокая производительность
  • Кассетная загрузка
  • Химически стойкое исполнение
  • Встроенный сенсорный дисплей
  • Сменные роторы для работы с различными размерами подложек
  • Сушка азотом
  • Встроенный нагреватель азота
  • Встроенный датчик сопротивления до 18 MΩ
  • Блок антистатики
  • Автоматическая блокировка дверцы 

Почему выбирают Semiclean?

✅ Проверенное качество – оборудование используется на ведущих предприятиях
✅ Гибкость настроек – адаптация под техпроцесс заказчика
✅ Сервисная поддержка – гарантия, обучение, ТО, сервисный центр в Москве

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установки SRD отмывки и сушки пластин и фотошаблонов Semiclean

Также Вас может заинтересовать
Установки SRD очистки и сушки пластин и фотошаблонов µSRD

Системы SRD-отмывки и сушки µSRD-150-B от компании Mot Semicon (Германия) 

Системы SRD-отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Корпус установок SRD изготовлен из полипропилена и нержавеющей стали устойчивых к воздействию используемой в технологических процессах химии. Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм и до 150 мм.

Системы SRD-отмывки и сушки µSRD-150-B от компании Mot Semicon (Германия) 

Системы SRD-отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Корпус установок SRD изготовлен из полипропилена и нержавеющей стали устойчивых к воздействию используемой в технологических процессах химии. Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм и до 150 мм.

Уже установлено в России и СНГ: 3 шт
Установки SST отмывки и сушки пластин и фотошаблонов

Установки SST (Spray Solvent Tool) обработки пластин в растворителяx (Китай)

Системы SST отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм, 150 мм и 200мм, фотошаблоны 76х76 мм, 102х102 мм, 127х127 мм, 178х178 мм. 

Камера: Усовершенствованная технология нанесения покрытий распылением, герметичная камера изолирует оператора от химических веществ, обеспечивая безопасность работы.
Конструкция на оси: унифицированный, повторяемый и гибкий процесс.
Высокая производительность: в одну камеру можно загружать до 25 шт. пластин, в две камеры - до 50 шт. пластин.

Применение: 

  • Stripper/Developer (Очиститель/проявка).
  • Удаление органических веществ и очистка от проявляющих/удаляющих адгезивов.
  • Очистка от остатков травления, очистка перед процессом диффузии.
  • Химическая очистка с использованием химикатов или без них.
  • Очистка полимеров.

 

Установки SST (Spray Solvent Tool) обработки пластин в растворителяx (Китай)

Системы SST отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм, 150 мм и 200мм, фотошаблоны 76х76 мм, 102х102 мм, 127х127 мм, 178х178 мм. 

Камера: Усовершенствованная технология нанесения покрытий распылением, герметичная камера изолирует оператора от химических веществ, обеспечивая безопасность работы.
Конструкция на оси: унифицированный, повторяемый и гибкий процесс.
Высокая производительность: в одну камеру можно загружать до 25 шт. пластин, в две камеры - до 50 шт. пластин.

Применение: 

  • Stripper/Developer (Очиститель/проявка).
  • Удаление органических веществ и очистка от проявляющих/удаляющих адгезивов.
  • Очистка от остатков травления, очистка перед процессом диффузии.
  • Химическая очистка с использованием химикатов или без них.
  • Очистка полимеров.

 

MICROCLUSTER WET TRACK - автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов

Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET TRACK от Obducat (Швеция).

Полностью втоматические установки для жидкостной обработки 

Системы Obducat Microcluster Wet Track - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.

Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET TRACK от Obducat (Швеция).

Полностью втоматические установки для жидкостной обработки 

Системы Obducat Microcluster Wet Track - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.