МИНАТЕХ завершил поставку и наладку установки атомно-слоевого осаждения - SI PEALD

МИНАТЕХ завершил комплексный проект поставки и наладки установки атомно-слоевого осаждения модели SI PEALD производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) в Институте физики полупроводников СО РАН в Новосибирске. 

Установка атомно-слоевого осаждения (АСО) позволяет наносить наноразмерные, ультратонкие, конформные высокоднородные пленки оксидов, нитридов и металлов путем термической (Thermal ALD) и плазменной обработки (PEALD) или их комбинации.

Установка включает:
- вакуумная камера-реактор для проведения процессов АСО
- вакуумный загрузочный шлюз
- плазменный источник емкостного типа (CCP) для реализации процесса PEALD
- вакуумный модуль           
- Высокоскоростная эллипсометрическая система для измерения толщины пленок формируемых в процессе АСО (ALD Real Time Monitor)
- нагреваемый держатель образцов
- интегрированная стойка аппаратного управления
- программное обеспечение для контроля системы и процессов АСО
- ловушка для конденсата
- скруббер для очистки отработанных газов Cleansorb CS070SA от CS AG.
- генератор азота Nitroport от Oxywise 

Подробнее о приборе можно прочитать по ссылке