µMLA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) с UV LED источником 365 нм и модулем растрового экспонирования с минимальным топологическим размером рисования в 0.6 мкм (600 нм). Установка также оснащена дополнительным оптическим автофокусом для экспонирования на образцах от 5х5 мм. Установка применяется в изготовлении фотошаблонов и прямом формировании изображения по фоторезисту на полупроводниковых пластинах.
Новости
Все новости
МИНАТЕХ завершил поставку и внедрение спектроскопического эллипсометра от Ellitop
Подробнее
МИНАТЕХ произвел поставку и запуск системы плазменной обработки COVANCE от FEMTO SCIENCE (Р. Корея)
Подробнее
МИНАТЕХ завершил поставку и внедрение двух спектроскопических эллипсометров от Ellitop
Подробнее
МИНАТЕХ завершил поставку и запуск двух настольных электронных микроскопов CUBE II от EmCrafts (Корея)
Подробнее
МИНАТЕХ завершил поставку двух центрифуг модели SPIN-1200T
Подробнее
МИНАТЕХ произвел поставку настольной платформы с активной виброизоляцией фирмы DAEIL SYSTEMS (Корея)
Подробнее
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
