В Новосибирске внедрена настольная установка безмасковой литографии µMLA от Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

В Новосибирском институте Физики полупроводников Сибирского отделения академии наук запущена настольная установка безмасковой литографии µMLA от Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH.

µMLA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) с UV LED источником 365 нм и модулем растрового экспонирования с минимальным топологическим размером рисования в 0.6 мкм (600 нм). Установка также оснащена дополнительным оптическим автофокусом и режимом "Переменное разрешение для растрового модуля экспонирования, для различных минимальных размеров элемента", что позволяет увеличивать скорость экспонирования, увеличивая топологический размер до 1 и 2 мкм соответственно. Установка применяется в изготовлении фотошаблонов и прямом формировании изображения по фоторезисту на полупроводниковых пластинах.

Подробнее о серии установок µMLA по ссылке.