Установка лазерной безмасковой фотолитографии DWL 66+ была введена в эксплуатацию в ЦКП «Спектроскопия и оптика» при ИАиЭ СО РАН. Установка предназначена для создания наноразмерных структур на различных подложках, микромеханики, микрооптики и интегральной оптики. DWL 66+ оснащена рядом уникальных опций, таких как координатная система повышенной точности продвинутый режим полутоновой шкалы экспонирования. DWL 66+ имеет 3 пишущих линзы с минимальными размерами топологии: 1, 0,6 и 0,3 мкм. Все это позволяет создавать уникальные структуры и 3D объекты на подложках в рамках научно-исследовательской ИАиЭ СО РАН.
Новости
Все новостиМИНАТЕХ произвел поставку и запуск системы плазменной обработки COVANCE от FEMTO SCIENCE (Р. Корея)
ПодробнееМИНАТЕХ завершил поставку и внедрение двух спектроскопических эллипсометров от Ellitop
ПодробнееМИНАТЕХ завершил поставку и запуск двух настольных электронных микроскопов CUBE II от EmCrafts (Корея)
ПодробнееМИНАТЕХ завершил поставку двух центрифуг модели SPIN-1200T
ПодробнееМИНАТЕХ произвел поставку настольной платформы с активной виброизоляцией фирмы DAEIL SYSTEMS (Корея)
ПодробнееМИНАТЕХ завершил поставку ручной аналитической зондовой станции MST4000А и двух виброизоляционных платформ серии DVIA-T
Подробнее