В Новосибирске запущена установка безмасковой лазерной литографии DWL 66+ (HiRes) от HIMT GmbH

МИНАТЕХ завершил поставку и наладку установки лазерной безмасковой фотолитографии DWL 66+ (HiRes) в комплектации для интегральной оптики и микрооптики от производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).

Установка лазерной безмасковой фотолитографии DWL 66+ была введена в эксплуатацию в ЦКП «Спектроскопия и оптика» при ИАиЭ СО РАН. Установка предназначена для создания наноразмерных структур на различных подложках, микромеханики, микрооптики и интегральной оптики. DWL 66+ оснащена рядом уникальных опций, таких как координатная система повышенной точности продвинутый режим полутоновой шкалы экспонирования. DWL 66+ имеет 3 пишущих линзы с минимальными размерами топологии: 1, 0,6 и 0,3 мкм. Все это позволяет создавать уникальные структуры и 3D объекты на подложках в рамках научно-исследовательской ИАиЭ СО РАН.

Подробнее о серии установок DWL 66+ по ссылке.