+7 (495) 909-89-53

Горизонтальные установки SRD отмывки и сушки пластин и фотошаблонов Semiclean

Горизонтальные установки SRD Semiclean для отмывки пластин 200 мм, Автоматическая сушка фотошаблонов в чистой комнате horizontal SRD_internalhorizontal SRD_automatic balancing

Горизонтальные системы SRD-отмывки и сушки Semiclean (Китай).

Системы SRD-отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Корпус установок SRD изготовлен из полипропилена и нержавеющей стали устойчивых к воздействию используемой в технологических процессах химии. Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм, 150 мм и 200мм, фотошаблоны 76х76 мм, 102х102 мм, 127х127 мм, 178х178 мм. 

Применение: Кислотная очистка SPM, органическая очистка, проявка, промывка, травление ITO, травление BOE, равномерное склеивание и другие различные технологические процессы для сушки пластин на отжиме.

Для управления процессом используется сенсорный дисплей. На панели отображается время процесса, скорость привода, показывается текущий шаг процесса. Время процесса может быть выбрано. Промывка деионизованной водой может быть контролируема по времени или по датчику сопротивления. После этого запускается сушка холодным (не нагретым) азотом, далее сушка нагретым азотом в течении заданного промежутка времени. Весь процесс автоматически контролируется встроенным контроллером PLC (programmable logic сontroller), в течении этого времени, обороты привода регулируются для подбора оптимального режима сушки пластин.

Ключевые преимущества

✔ Высокая степень очистки – удаление частиц, органических и ионных загрязнений
✔ Бережная сушка – без разводов и повреждений поверхности
✔ Автоматизация процессов – снижение влияния человеческого фактора
✔ Надежность и долговечность – стабильная работа в производственных условиях
✔ Совместимость с пластинами различных диаметров (до 300 мм)

Область применения

  • Производство полупроводников
  • Фотолитография (очистка фотошаблонов)
  • Исследовательские лаборатории
  • Микроэлектроника и MEMS
  • Производство пластин (Si, SiC, GaN, GaAs, Ge, Сапфир, InP и др)

Особенности

  • Высокая производительность
  • Кассетная загрузка
  • Химически стойкое исполнение
  • Встроенный сенсорный дисплей
  • Сменные роторы для работы с различными размерами подложек
  • Сушка азотом
  • Встроенный нагреватель азота
  • Встроенный датчик сопротивления до 18 MΩ
  • Блок антистатики
  • Автоматическая блокировка дверцы 

Почему выбирают Semiclean?

✅ Проверенное качество – оборудование используется на ведущих предприятиях
✅ Гибкость настроек – адаптация под техпроцесс заказчика
✅ Сервисная поддержка – гарантия, обучение, ТО, сервисный центр в Москве

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Горизонтальные установки SRD отмывки и сушки пластин и фотошаблонов Semiclean

Также Вас может заинтересовать
MICROCLUSTER WET - MC 204 WET - автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов

Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET от Obducat (Швеция).

Полностью втоматические установки для жидкостной обработки 

Системы Obducat Microcluster Wet - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету с 4мя модулями, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.

Полностью автоматические установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов MICROCLUSTER WET от Obducat (Швеция).

Полностью втоматические установки для жидкостной обработки 

Системы Obducat Microcluster Wet - это автоматические напольные системы жидкостной обработки с загрузкой из кассеты в кассету с 4мя модулями, предназначенными для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера.

Установки SRD отмывки и сушки пластин и фотошаблонов Semiclean

Системы SRD-отмывки и сушки Semiclean (Китай).

Системы SRD-отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Корпус установок SRD изготовлен из полипропилена и нержавеющей стали устойчивых к воздействию используемой в технологических процессах химии. Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм, 150 мм и 200мм, фотошаблоны 76х76 мм, 102х102 мм, 127х127 мм, 178х178 мм. 

«SRD установки Semiclean – это профессиональное оборудование для отмывки и сушки кремниевых пластин и фотошаблонов в микроэлектронике. Обеспечивают высокую степень очистки от частиц, органических и ионных загрязнений, а также бережную сушку без повреждений поверхности.

 

Системы SRD-отмывки и сушки Semiclean (Китай).

Системы SRD-отмывки и сушки имеют высокую производительность и обеспечивают качественный и экономичный отмыв и сушку пластин.  Корпус установок SRD изготовлен из полипропилена и нержавеющей стали устойчивых к воздействию используемой в технологических процессах химии. Сменные роторы позволяют работать с различными размерами подложек, например, 60х48 мм, 76 мм, 100 мм, 150 мм и 200мм, фотошаблоны 76х76 мм, 102х102 мм, 127х127 мм, 178х178 мм. 

«SRD установки Semiclean – это профессиональное оборудование для отмывки и сушки кремниевых пластин и фотошаблонов в микроэлектронике. Обеспечивают высокую степень очистки от частиц, органических и ионных загрязнений, а также бережную сушку без повреждений поверхности.

 

Уже установлено в России и СНГ: 11 шт
QUICKSTEP WET - установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов

Установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов QUICKSTEP WET от Obducat (Швеция).

Полуавтоматические установки для жидкостной обработки 

Системы Obducat Quickstep Wet - это напольные системы жидкостной обработки, предназначенные для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера, а также больших подложек диаметром до 1500 мм.

Установки очистки и жидкостной обработки пластин и фотошаблонов QUICKSTEP WET от Obducat (Швеция).

Полуавтоматические установки для жидкостной обработки 

Системы Obducat Quickstep Wet - это напольные системы жидкостной обработки, предназначенные для очистки пластин и фотошаблонов, Lift-Off процессов, травления или проявления фоторезистов. Благодаря широкому выбору опций эти установки легко конфигурируются в соответствии с потребностями клиентов при обработке пластин размером 200 и 300 мм или меньшего размера, а также больших подложек диаметром до 1500 мм.