Установки плазменного осаждения диэлектриков Depolab 200 производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) без вакуумного загрузочного шлюза.
Система осаждения диэлектриков Depolab 200 (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH предназначен для использования в НИОКР для реализации процессов осаждения слоев SiO2, SiNx, SiONx на подложки размером до 200 мм в диаметре. Установка выполнена без вакуумного загрузочного шлюза и имеет очень компактный дизайн и бюджетную цену.
| Модель установки | Depolab 200 |
| Диаметр обрабатываемых пластин | до 200 мм. |
| Реактор | AlMgSi 0.5 материал камеры |
| Электрод подложки | Диаметр электрода 240 мм Температурный контроль в диапазоне 200оС - 400оС. |
| Верхний электрод | алюминиевый электрод с газовым душем диаметр душевой системы - 218 мм RF электрод, 13,56 МГц Опция: LF генератор 300-500 кГц для смешивания частот |
| Вакуумная система | < 10-2 mbar, форвакуумный насос Опционально: турбина <10-5 mbar антикоррозионное исполнение |
| Газовые линии | до 8 газовых линий с MFC и фильтрами и отсечными клапанами |
| RF/ LF генератор | ВЧ генератор 13,56 МГц, 300 Вт., воздушное охлаждение автоматическое согласование LF генератор 300-500 кГц, до 1250 Вт для смешивания частот |
| Контроль | SENTECH control software |
| Опции |
- Более производительная вакуумная система |
Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru
Установки плазменного высокоскоростного осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме SI 500 D производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Источник индуктивно-связанной плазмы
Вакуумный загрузочный шлюз
Процесс: ICPECVD
До 16 газовых линий
Программное обеспечение SENTECH Software
OES и лазерная интерферометрия, in-situ эллипсометр
Подача жидких прекурсоров (TEOS)
Установки плазменного высокоскоростного осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме SI 500 D производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Источник индуктивно-связанной плазмы
Вакуумный загрузочный шлюз
Процесс: ICPECVD
До 16 газовых линий
Программное обеспечение SENTECH Software
OES и лазерная интерферометрия, in-situ эллипсометр
Подача жидких прекурсоров (TEOS)
Установки плазменного осаждения диэлектриков SI 500 PPD производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Вакуумный загрузочный шлюз
Процесс: PECVD
До 8 газовых линий
Программное обеспечение SENTECH Software
OES и лазерная интерферометрия, in-situ эллипсометр
Установки плазменного осаждения диэлектриков SI 500 PPD производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) c вакуумным загрузочным шлюзом.
Обработка пластин диаметром до 200 мм.
Вакуумный загрузочный шлюз
Процесс: PECVD
До 8 газовых линий
Программное обеспечение SENTECH Software
OES и лазерная интерферометрия, in-situ эллипсометр
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
