+7 (495) 909-89-53

Установка AS-Micro для быстрых термических процессов (RTP)

Система для быстрых термических процессов ASMicro_Twin

Система AS-Micro производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов (RTP) для использования пластин диаметром до 3 дюймов для использования в лабораториях. Версия с двумя камерами для перекрестного загрязнения (cross contamination).

Применение:
Быстрый термический отжиг (RTA)
Быстрое термическое окисление (RTO)
Послеимплантационный отжиг
Отжиг соединений полупроводников
Кристализация и Загустевание
Сульфиризация и Селенизация и др.

Особенности

  • Размер подложек от кусочков до 3 дюймов (76 мм) в диаметре
  • Опционально трехдюймовый держатель для образцов диаметром 2 дюйма
  • Термопроцессор для быстрой термической обработки 3-дюймовых пластин
  • Компактная конфигурация для настольного расположения
  • Узкоспециализированные и исследовательские задачи применения
  • Кварцевая труба камеры реактора с фланцами из нержавеющей стали
  • Цилиндрические инфракрасные галогеновые лампы печи
  • Очень быстрая скорость нагрева
  • Дверь с горизонтальным движением с кварцевым лотком для легкой загрузки/выгрузки пластин и установки термопар
  • Возможно установка двух реакторов на одной стойке
Скачать брощюру в PDF
Скачать презентацию в PDF

Характеристики

Температурный диапазон от комнатной (RT) до 1250°C
Скорость нагрева до 250°C/сек. на двухдюймовой (2") кремниевой подложке и 200°C/сек на трехдюймовой (3") подложк
Газовая система Возможность смешивать процессные газы, Контроллеры массового расхода газа
Вакуум от атм. (н.у.) до 10-2 Торр (10-6 Торр по запросу с турбомолекулярным насосом - опция)
Контроль температуры измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур
Управление система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows
Опции пиромерт

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка AS-Micro для быстрых термических процессов (RTP)

Также Вас может заинтересовать
Установка AS-Master для быстрых термических процессов (RTP) и RTCVD

Универсальная система AS-Master производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром до 8 дюймов (200 мм.) с возможностью проведения процессов RTCVD (опция).   

Применение:
быстрый термический отжиг (RTA)
быстрое термическое окисление (RTO)
RTCVD
послеимплантационный отжиг и др.
Температурный диапазон: от RT до 1450°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная (опция: загрузка из кассеты в кассету) 

Универсальная система AS-Master производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром до 8 дюймов (200 мм.) с возможностью проведения процессов RTCVD (опция).   

Применение:
быстрый термический отжиг (RTA)
быстрое термическое окисление (RTO)
RTCVD
послеимплантационный отжиг и др.
Температурный диапазон: от RT до 1450°C (в зависимости от версии печи)
Загрузка: ручная (опция: загрузка из кассеты в кассету) 

Уже установлено в России и СНГ: 3 шт
Установка высокотемпературного отжига Zenith 100

Компактная система Zenith 100 и Zenith 150 производства ANNEALSYS (Франция) для высокотемпературных термических процессов (High Temperature RTP и CVD) для обработки пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм) и до 6 дюймов (150 мм) соотвестенно.

Применение:
Постимплантационный отжиг SiC
Получение графена высокотемпературной сублимацией SiC
Получение графена CVD методом
Температурный диапазон: от 450°C до 2000°C
Пластины до 100 мм
Загрузка: ручная

Компактная система Zenith 100 и Zenith 150 производства ANNEALSYS (Франция) для высокотемпературных термических процессов (High Temperature RTP и CVD) для обработки пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм) и до 6 дюймов (150 мм) соотвестенно.

Применение:
Постимплантационный отжиг SiC
Получение графена высокотемпературной сублимацией SiC
Получение графена CVD методом
Температурный диапазон: от 450°C до 2000°C
Пластины до 100 мм
Загрузка: ручная

Компактная установка AS-Premium для быстрых термических процессов (RTP)

Компактная система AS-Premium  производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин размером до 8х8 дюймов (200 х 200 мм) с холодными стенками. 

Применение:
быстрый термический отжиг (RTA)
быстрое термическое окисление (RTO)
Диффузия
Селенизация (CIGS solar cell)
Отжиг полупроводников
Нитритизация, силицидирование
Кристализация и уплотнение
Температурный диапазон: от RT до 1300°C
Верхнее расположение ламп или двухсторонний отжиг с верхним и нижним расположением ламп
Загрузка: ручная (опционально - кассетная закгрузка, кластерная конфигурация)

Компактная система AS-Premium  производства ANNEALSYS (Франция) для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин размером до 8х8 дюймов (200 х 200 мм) с холодными стенками. 

Применение:
быстрый термический отжиг (RTA)
быстрое термическое окисление (RTO)
Диффузия
Селенизация (CIGS solar cell)
Отжиг полупроводников
Нитритизация, силицидирование
Кристализация и уплотнение
Температурный диапазон: от RT до 1300°C
Верхнее расположение ламп или двухсторонний отжиг с верхним и нижним расположением ламп
Загрузка: ручная (опционально - кассетная закгрузка, кластерная конфигурация)