Система анализа микроструктур Axalit на базе микроскопа NX600TR (Nexcope).
Применение: инспекция пластин и фотошаблонов, измерение критических размеров в прямом отраженном свете и проходящем свете (светлое поле, темное поле).
Пластины диаметром до 150 мм.
Основной корпус: 3 Вт светодиод, отраженный и проходящий свет
Окуляр: SW10X/22
Визуальная головка: тринокулярная визуальная головка, наклоненная на 30°, межзрачковое расстояние 47-78 мм, отношение деления луча 100/0, 0/100
С mount: 0,5X С mount
Револьверная головка: кодированная шестикратная револьверная головка
Объектив NIS45: BF&DF: 5x NA=0,15 WD=20
10x NA=0,3 WD=11
20x NA=0,45 WD=3,0
50x NA=0,5, WD=10,6
100x NA=0,9 WD=1
Конденсор: конденсор LWD, 3 Вт светодиод
Стол: 6-дюймовый столик, диапазон перемещения 160 мм*160 мм
Столовое стекло 174*160*5,8
Стол для пластин, подходит для 6-дюймовых пластин
Освещение EPI: осветитель, белый светодиод 5 Вт, 3500 К
Модуль светлого поля, модуль темного поля, матовое стекло
Аксессуары: фильтр ND6, фильтр ND25
CMOS цифровая камера 5Mpx и ПО AXALIT. (внесено в реестр СИ)
Брошюра Nexcope общая в PDF
Шлифовальные и полировальные материалы из Германии фирм MetCata GmbH и Eminess
Шлифовальные и полировальные материалы из Германии фирм MetCata GmbH и Eminess
Термоплитка для сушки и задубливания фоторезиста, модель HP100-PA от LEBO Science (Китай).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 220х220 мм.
Цифровой 7" PLC дисплей
Максимальная температура: 300 oC
Lift-pins (0-30 мм)
Продувка азота под крышку
Термоплитка для сушки и задубливания фоторезиста, модель HP100-PA от LEBO Science (Китай).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 220х220 мм.
Цифровой 7" PLC дисплей
Максимальная температура: 300 oC
Lift-pins (0-30 мм)
Продувка азота под крышку
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.