Установка плазменной очистки при атмосферном давлении

Установка плазменной очистки и активации поверхности при атмосферном давлении (Китай). Установка готова к отгрузке нашим заказчикам в самые кратчайшие сроки. 

Применение: очистка, удаление органики с поверхности, активация.

Основные области применения: для улучшения адгезии различных образцов, для мелкосерийного производства полупроводниковых приборов или электронных интегральных схем и исследовательских
лабораторий при проведении НИОКР, ОКР.

Описание: 

Прибор для плазменной обработки представляет собой компактную систему для обработки поверхности с помощью струйного плазменного потока в атмосфере. Струйный плазменный поток может активировать и очищать поверхность материалов (таких как монокристаллические пластины, оптические компоненты, пластмассы и т. д.) при более низкой температуре и в невакуумных условиях. Скорость очистки высокая, а поверхность материалов получается чистой. Предварительная обработка поверхности материалов помогает подготовить их к получению высококачественных эпитаксиальных пленок или значительно улучшить качество оптического покрытия. Портативная часть прибора для плазменной обработки поверхности имеет небольшие размеры и вес, что позволяет легко переносить его для использования на открытом воздухе. Управление простое, и можно легко регулировать положение очищаемого образца.

ПОСТАВКА УСТАНОВКИ В ТЕЧЕНИЕ НЕДЕЛИ.