+7 (495) 909-89-53

Установка плазменной очистки Zepto (low cost system)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto ZeptoZepto_light_bigzepto_pczepto_pccezepto_ex_pc

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Примеры применения по отраслям...

мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков

Особенности

  • Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра

  • Вакуумный насос

  • Датчик давления Pirani (опция)
  • Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт

  • Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)

  • Газовые линии - до 2 шт. (игольчатые глапана или MFC)

Скачать брошюру Zepto в PDF

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литров: 
Ø 105 mm, глубина 200 мм или 300 мм (кварцевая)
Ø 95 mm, глубина 200 мм или 300 мм
 (боросиликатное стекло)
Материал камеры Боросиликатное стекло или кварцевое стекло
Подвод газа до 2-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC
Генератор плазмы 100 кГц, до 30 Вт,
40кГц, до 100 Вт,
13,56 МГц, до 30 Вт. (фиксированное согласование) 
13,56 МГц, до 200 Вт (автоматическое согласование)
Контроль Ручной 
PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC
PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC
Производительность вакуумного насоса
сухой насос, 1,3 до 2,5 м3/ час
Подключение 220 В, 50 Гц

Видеопрезентация установки Zepto


Видеопрезентация фирмы Diener



Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Установка плазменной очистки Zepto (low cost system)

Также Вас может заинтересовать
Установка плазменной очистки Tetra 2800

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия)

Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)

Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия)

Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)

Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.

Установка плазменной очистки Pico

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия)

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт. 
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Уже установлено в России и СНГ: 15 шт
Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия)

Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия)

Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.

Уже установлено в России и СНГ: 1 шт