Настольная лабораторная центрифуга SPIN-1200T производства MIDAS SYSTEM (Корея) для нанесения фоторезиста или сушки с ручным управлением и дозированием фоторезиста и цветным touch screen дисплеем для управления процессом, создания рецептов.
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин диам. 100 мм (до 150 мм - опция)
| Размер подложки | от 5х5 мм до 100 мм (до 150 мм - опция) |
| Скорость вращения | от 300 до 10000 об/мин +/-1% для не загруженного держателя |
| Ускорение | Ускорение и скорость задается оператором |
| Управление | Цветной touch screen дисплей, 20 рецептов, 50 шагов |
| Размер барабана | 8 дюймов, материал Ацеталь |
| Мотор | DC сервомотор |
| Корпус | Нержавеющая сталь |
| Вакуумный прижим | Анодированный алюминий |
| Электропитание | 220 В, 50 Гц. |
| Размеры | 230 х 340 х 260 мм. |
Полностью автоматическая трековая система для нанесения и проявления фоторезиста серии DAVID производства CND PLUS (Ю. Корея).
Автоматическая трековая система обеспечивает работу с пластинами до 300 мм и квадратными подложками до 200х200мм, так же возможна единовременная работа с пластинами двух типов 2-4”, 4-6”, 6-8” и 8-12”, встроенная климатическая система обеспечивает стабильные параметры микроклимата в процессной камере. Система соответствует всем техническим требованиям нанесения тонкопленочных и толстопленочных покрытий и проявления фоторезиста.
Кассетная загрузка. FOUP кассета опционально.
Полностью автоматическая трековая система для нанесения и проявления фоторезиста серии DAVID производства CND PLUS (Ю. Корея).
Автоматическая трековая система обеспечивает работу с пластинами до 300 мм и квадратными подложками до 200х200мм, так же возможна единовременная работа с пластинами двух типов 2-4”, 4-6”, 6-8” и 8-12”, встроенная климатическая система обеспечивает стабильные параметры микроклимата в процессной камере. Система соответствует всем техническим требованиям нанесения тонкопленочных и толстопленочных покрытий и проявления фоторезиста.
Кассетная загрузка. FOUP кассета опционально.
Термоплитка для сушки фоторезиста ND-1 от AS One (Япония).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 170х170 мм.
Цифровой дисплей
Максимальная температура: 350 oC
Термоплитка для сушки фоторезиста ND-1 от AS One (Япония).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 170х170 мм.
Цифровой дисплей
Максимальная температура: 350 oC
MINILAB - полностью укомплектованная литографическая лаборатория, производства MIDAS SYSTEM (Корея) включающая центрифугу для нанесения фоторезиста, термостолик сушки и задубливания и станцию (генератор) деионизованной воды.
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин диам. 100 мм (до 150 мм - опция)
MINILAB - полностью укомплектованная литографическая лаборатория, производства MIDAS SYSTEM (Корея) включающая центрифугу для нанесения фоторезиста, термостолик сушки и задубливания и станцию (генератор) деионизованной воды.
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин диам. 100 мм (до 150 мм - опция)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
