+7 (495) 909-89-53

Полностью автоматическая трековая система для нанесения и проявления и сушки фоторезиста MDS-ASC

MDS-ASC

Полностью автоматическая трековая система для нанесения и проявления фоторезиста MDS-ASC производства MIDAS SYSTEM (Ю. Корея).

Данная система имеет высокую производительность и низкую стоимость эксплуатации, гибкие опциональные возможности комплектации, модульная конструкция позволяет комплектовать каждую систему под индивидуальные нужды заказчика. Система идеально подходит для работы со степпером и автоматическими установками совмещения.

MDS-ASC – это полностью автоматизированная трековая система, предназначенная для высокоточного нанесения, проявления и сушки фоторезиста в процессах фотолитографии. Оборудование обеспечивает стабильность и воспроизводимость результатов, что делает его незаменимым в производстве микроэлектроники, полупроводниковых устройств и научных исследованиях.

Особенности

  • Гибкая модульная конструкция
  • Полная автоматизация – минимизация ручного вмешательства
  • Высокая производительность (зависит от количества установленных модулей и рецепта)
  • Собственная встроенная климатическая система
  • Высокий показатель однородности слоя по пластине
  • Высокий показатель воспроизводимости процесса от пластины к пластине
  • Установка горячих (HP) или холодной плиты (CP) для сушки резиста
  • Установка HMDS (опция) 
  • Возможность установки EBR (Edge Bead Removal) модуля удаления валика на краю пластины
  • Возможность установки BSRN (Back Side Rinse Nozzle) модуля отмывки обратной стороны
  • Удобное и интуитивно понятное программное обеспечение для работы с системой и создания готовых рецептов
  • Компактная архитектура с роботом и кассетами, расположенным по центру
  • Параллельная потоковая работа с подложками разных размеров позволяет оптимально использовать мощности системы
  • Высокое качество нанесения на квадратные подложки без сбора фоторезиста по углам

Области применения:

  • Производство микросхем и полупроводников

  • Нанотехнологии и MEMS-устройства

  • Оптоэлектроника и сенсоры

  • Лабораторные исследования в микроэлектронике

Характеристики

Размер подложки до 8’‘ (Ø 200 мм) / до 150х150 мм
Возможность единовременной работы на двух типах подложек 2” - 4” или 4” - 6”или 6” - 8”
Количество технологических модулей

нанесение/проявление до 4 шт.

горячих/холодных плит до 8 шт.
Скорость вращения до 6000 об/мин 
Ускорение Ускорение и скорость задается оператором
Модуль адгезива с нагревом от 50 до 200°С
Горячая плита (термостол) от 50 до 200°С (±0,8°С)
Холодная плита от 20 до 25°С (±0,2°С)
Управление Программатор
Загрузка пластин  автоматическая роботизированная
Однородность нанесения от пластины к пластине 1%
Вакуумный прижим да
Электропитание 220 В, 50А,  1 фаза
Размеры  зависиот от конфигурации

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Полностью автоматическая трековая система для нанесения и проявления и сушки фоторезиста MDS-ASC

Также Вас может заинтересовать
MINILAB - литографическая мини лаборатория

MINILAB - полностью укомплектованная литографическая лаборатория, производства MIDAS SYSTEM (Корея) включающая центрифугу для нанесения фоторезиста, термостолик сушки и задубливания и станцию (генератор) деионизованной воды. 
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин диам. 100 мм (до 150 мм - опция)

 

MINILAB - полностью укомплектованная литографическая лаборатория, производства MIDAS SYSTEM (Корея) включающая центрифугу для нанесения фоторезиста, термостолик сушки и задубливания и станцию (генератор) деионизованной воды. 
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин диам. 100 мм (до 150 мм - опция)

 

Уже установлено в России и СНГ: 1 шт
Центрифуга для нанесения/проявления фоторезиста или сушки - SPIN-5000A

Центрифуга SPIN-5000A для нанесения/проявления фоторезиста или сушки с автоматическим дозированием фоторезиста или проявителя и программатором (touch screen дисплей) для управления процессом, создания рецептов. 
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 500х500 мм.
AC сервомотор

 

Центрифуга SPIN-5000A для нанесения/проявления фоторезиста или сушки с автоматическим дозированием фоторезиста или проявителя и программатором (touch screen дисплей) для управления процессом, создания рецептов. 
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 500х500 мм.
AC сервомотор

 

Термостолик для сушки фоторезиста ND-1

Термоплитка для сушки фоторезиста ND-1 от AS One (Япония). 
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 170х170 мм.
Цифровой дисплей
Максимальная температура: 350 oC

Термоплитка для сушки фоторезиста ND-1 от AS One (Япония). 
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 170х170 мм.
Цифровой дисплей
Максимальная температура: 350 oC

Уже установлено в России и СНГ: 7 шт