![]()
Полностью автоматическая трековая система для нанесения и проявления фоторезиста MDS-ASC производства MIDAS SYSTEM (Ю. Корея).
Данная система имеет высокую производительность и низкую стоимость эксплуатации, гибкие опциональные возможности комплектации, модульная конструкция позволяет комплектовать каждую систему под индивидуальные нужды заказчика. Система идеально подходит для работы со степпером и автоматическими установками совмещения.
MDS-ASC – это полностью автоматизированная трековая система, предназначенная для высокоточного нанесения, проявления и сушки фоторезиста в процессах фотолитографии. Оборудование обеспечивает стабильность и воспроизводимость результатов, что делает его незаменимым в производстве микроэлектроники, полупроводниковых устройств и научных исследованиях.
Производство микросхем и полупроводников
Нанотехнологии и MEMS-устройства
Оптоэлектроника и сенсоры
Лабораторные исследования в микроэлектронике
| Размер подложки | до 8’‘ (Ø 200 мм) / до 150х150 мм |
| Возможность единовременной работы на двух типах подложек | 2” - 4” или 4” - 6”или 6” - 8” |
| Количество технологических модулей |
нанесение/проявление до 4 шт. горячих/холодных плит до 8 шт. |
| Скорость вращения | до 6000 об/мин |
| Ускорение | Ускорение и скорость задается оператором |
| Модуль адгезива с нагревом | от 50 до 200°С |
| Горячая плита (термостол) | от 50 до 200°С (±0,8°С) |
| Холодная плита | от 20 до 25°С (±0,2°С) |
| Управление | Программатор |
| Загрузка пластин | автоматическая роботизированная |
| Однородность нанесения от пластины к пластине | 1% |
| Вакуумный прижим | да |
| Электропитание | 220 В, 50А, 1 фаза |
| Размеры | зависиот от конфигурации |
MINILAB - полностью укомплектованная литографическая лаборатория, производства MIDAS SYSTEM (Корея) включающая центрифугу для нанесения фоторезиста, термостолик сушки и задубливания и станцию (генератор) деионизованной воды.
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин диам. 100 мм (до 150 мм - опция)
MINILAB - полностью укомплектованная литографическая лаборатория, производства MIDAS SYSTEM (Корея) включающая центрифугу для нанесения фоторезиста, термостолик сушки и задубливания и станцию (генератор) деионизованной воды.
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин диам. 100 мм (до 150 мм - опция)
Центрифуга SPIN-5000A для нанесения/проявления фоторезиста или сушки с автоматическим дозированием фоторезиста или проявителя и программатором (touch screen дисплей) для управления процессом, создания рецептов.
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 500х500 мм.
AC сервомотор
Центрифуга SPIN-5000A для нанесения/проявления фоторезиста или сушки с автоматическим дозированием фоторезиста или проявителя и программатором (touch screen дисплей) для управления процессом, создания рецептов.
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 500х500 мм.
AC сервомотор
Термоплитка для сушки фоторезиста ND-1 от AS One (Япония).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 170х170 мм.
Цифровой дисплей
Максимальная температура: 350 oC
Термоплитка для сушки фоторезиста ND-1 от AS One (Япония).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 170х170 мм.
Цифровой дисплей
Максимальная температура: 350 oC