![]()
Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC
Eplec-RC - установки четырехзондового измерения (4-point probe) - измерение удельного и поверхностного сопротивления четырехзондовым методом на полупроводниковых пластинах Si, GaAs, InP, Ge, SiC, Сапфира и др. производства PLSINTEC CORPORATION (Китай).
Измерение (картирование) на пластинах диаметром от 52 мм (2") до 200 мм (8") и толщиной до 4 мм.
Проводящая бумага и проводящий текстиль
Измеряемые параметры:
Установка четырехзондового измерения удельного и поверхностного сопротивления модели Eplec-RC
Зонд типа A (для металлических пленок): Расстояние между 4-точечными зондами: 1,016 мм, радиус наконечника -0,04 мм
Зонд типа В (общего назначения для имплантации, легированный поликремний, силициды и эпитаксия): Расстояние между 4-точечными зондами: 1,016 мм, радиус наконечника - 0,1 мм.
*Включает в себя два стандартных эталонных образца для измерений: 2,8 Ом (эталонный образец RPAC-A) и 280 Ом (эталонные образцы RPAC-B)
Платформа (столик) с автоматическим перемещением 200x200 мм и держатель. Поддерживает пластины до 8 дюймов и совместим с 2-дюймовыми, 3-дюймовыми, 4-дюймовыми и 6-дюймовыми пластинами.
Компьютерная система. Настройка программного обеспечения для обнаружения (программное обеспечение для 4-точечных зондов), системы управления базами данных и поддержка экспорта отчетов в формате PDF и Excel с редактируемыми шаблонами.
Прецизионный источник-измеритель.
Полировальный порошок оксида церия (CeO2) в наличии на нашем складе в Москве.
Применение: Оптические линзы, оптические фильтры, оптическое стекло со степенью истирания 80-150, шлифование твердого стекла (hard glass), например: BK7, B270
Полировальный порошок оксида церия (CeO2) в наличии на нашем складе в Москве.
Применение: Оптические линзы, оптические фильтры, оптическое стекло со степенью истирания 80-150, шлифование твердого стекла (hard glass), например: BK7, B270
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000A от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 200мм.
Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000A от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.
Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 200мм.