+7 (495) 909-89-53

Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC

Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC

Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC

Eplec-RC - установки четырехзондового измерения (4-point probe) - измерение удельного и поверхностного сопротивления четырехзондовым методом на полупроводниковых пластинах Si, GaAs, InP, Ge, SiC, Сапфира и др. производства PLSINTEC CORPORATION (Китай). 

Измерение (картирование) на пластинах диаметром от 52 мм (2") до 200 мм (8") и толщиной до 4 мм.  

Проводящая бумага и проводящий текстиль

Измеряемые параметры:

  • Диапазон измерений: 1 mΩ/sq-200 MΩ/sq
  • Высокая точность – ±1%.
  • Воспроизводимость (1σ) -  < 0,2%
  • Столик до 200х200 мм
  • Толщина пластин: 70 мкм до 4 мм.

Комплектация установки Eplec-RC 

  • Установка четырехзондового измерения удельного и поверхностного сопротивления модели Eplec-RC

  • Зонд типа A (для металлических пленок): Расстояние между 4-точечными зондами: 1,016 мм, радиус наконечника -0,04 мм

  • Зонд типа В (общего назначения для имплантации, легированный поликремний, силициды и эпитаксия): Расстояние между 4-точечными зондами: 1,016 мм, радиус наконечника - 0,1 мм.

    *Включает в себя два стандартных эталонных образца для измерений: 2,8 Ом (эталонный образец RPAC-A) и 280 Ом (эталонные образцы RPAC-B)

  • Платформа (столик) с автоматическим перемещением 200x200 мм и держатель. Поддерживает пластины до 8 дюймов и совместим с 2-дюймовыми, 3-дюймовыми, 4-дюймовыми и 6-дюймовыми пластинами.

  • Компьютерная система. Настройка программного обеспечения для обнаружения (программное обеспечение для 4-точечных зондов), системы управления базами данных и поддержка экспорта отчетов в формате PDF и Excel с редактируемыми шаблонами.

  • Прецизионный источник-измеритель.


ПОСТАВКА УСТАНОВКИ В ТЕЧЕНИЕ НЕДЕЛИ.

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Запросить предложение товара

Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC

Также Вас может заинтересовать
Полировальный порошок оксида церия (CeO2)

Полировальный порошок оксида церия (CeO2) в наличии на нашем складе в Москве. 

Применение:
 Оптические линзы, оптические фильтры, оптическое стекло со степенью истирания 80-150, шлифование твердого стекла (hard glass), например: BK7, B270

Полировальный порошок оксида церия (CeO2) в наличии на нашем складе в Москве. 

Применение:
 Оптические линзы, оптические фильтры, оптическое стекло со степенью истирания 80-150, шлифование твердого стекла (hard glass), например: BK7, B270

Центрифуга SPIN-3000BD для нанесения резиста или других покрытий

Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.

Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.

Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000BD от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.

Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 150мм.

Центрифуга SPIN-3000A для нанесения фоторезиста от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.SPIN-3000A для нанесения резиста или других покрытий

Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000A от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.

Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 200мм.

Центрифуга для нанесения фоторезиста модели SPIN-3000A от MIDAS SYSTEM (Корея) с нашего склада.

Применение: нанесение фоторезиста или других покрытий методом центрифугирования.
Пластины до 200мм.