Отрезные диски для станков дисковой резки пластин
Наиболее распространенные размеры дисков 2" с почадочным рзмером 40мм.
Диски подходят для машин: Disco, Accretech, ADT, SR Co. Ltd. и др.
Таблица подбора:
Диски в наличии:
| Наименование (модель) | остаток по складу | |||
| SH3580CLH | 1 шт в уп. | 7 | ||
| SH3080DSH (for Si) | 1 шт в уп. | 27 | ||
| KH3080DSH / SH3080DSH (for Si) | 1 шт в уп. | 50 | ||
| KH35100CLH / SH35100CLH (for Si) | 1 шт в уп. | 25 | ||
| KH3080CHH / SH3080CHH (for SiC) | 1 шт в уп. | 20 | ||
| KH40100CHH / SH40100CHH (for SiC) | 1 шт в уп. | 10 | ||
| бескорпусной диск, KHL-58х0.3х40 / SHL-58х0.3х40 (for Saphire) | 1 шт в уп. | 10 | ||
| KH2050ASS / SH2050ASS (for GaAs) | 1 шт в уп. | 10 | ||
| KH2550BSS / SH2550BSS (for GaAs) | 1 шт в уп. | 10 | ||
| KH60130DSH / SH60130DSH (for SiC) | 1 шт в уп. | 10 |
Так же вы можете обратиться к нашим специалистам за консультацией.
Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru
Термоплитка для сушки и задубливания фоторезиста, модель HP10 от LEBO Science (Китай).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 220х220 мм.
Максимальная температура: 300 oC
Ручное управление с кнопок
Термоплитка для сушки и задубливания фоторезиста, модель HP10 от LEBO Science (Китай).
Размер подложек: от кусочков 5х5 мм до пластин 220х220 мм.
Максимальная температура: 300 oC
Ручное управление с кнопок
Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC
Eplec-RC - установки четырехзондового измерения (4-point probe) - измерение удельного и поверхностного сопротивления четырехзондовым методом на полупроводниковых пластинах Si, GaAs, InP, Ge, SiC, Сапфира и др. производства PLSINTEC CORPORATION (Китай).
Измерение (картирование) на пластинах диаметром от 52 мм (2") до 200 мм (8") и толщиной до 4 мм.
Четырехзондовая полуавтоматическая установка измерения удельного сопротивления слоев, Eplec-RC
Eplec-RC - установки четырехзондового измерения (4-point probe) - измерение удельного и поверхностного сопротивления четырехзондовым методом на полупроводниковых пластинах Si, GaAs, InP, Ge, SiC, Сапфира и др. производства PLSINTEC CORPORATION (Китай).
Измерение (картирование) на пластинах диаметром от 52 мм (2") до 200 мм (8") и толщиной до 4 мм.
ГУФ (DUV) лампа для установок фотолитографии USHIO UXM-501MD (Япония)
ГУФ (DUV) лампа для установок фотолитографии USHIO UXM-501MD (Япония)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
