SENDURO ® MEMS - новая полностью автоматизированная (с кассетной станцией) измерительная система для измерения толщин и оптических констант большого разнообразия тонких пленок и стеков, таких как оксиды, нитриды, a-Si, Si-мембраны, резисты, типичные в MEMS и производстве датчиков производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).

Спектральный диапазон: от 300 до 1000 нм
Полностью автоматическое выравнивания образца нажатием одной кнопки
Загрузка из кассеты в кассету (С to C station)
Pattern recognition (опция)
SpectraRay/4 программный пакет
Моторизованные столики для сканирования
Работа с пластинами до 200 мм.
Производительность до 60 пластин в час.

Модели: 

SENDURO ® MEMS R - полностью автоматизированный инструмент для измерения толщины пленок, оснащенный рефлектометром SENTECH. Рефлектометрические измерения осуществляется в спектральном диапазоне 400 нм до 1000 нм с размером пятна 80 мкм.

SENDURO ® MEMS E  - полностью автоматизированный инструмент для измерения толщины пленок, оснащенный высокоэффективным спектроскопическим эллипсометром SENTECH, который основан на принципе пошагового сканирования («Step Scan Analyzer»). Эллипсометр работает в спектральном диапазоне от 300 нм до 1000 нм с размером пятна 200 х 600 мкм².

SENDURO ® MEMS µE - полностью автоматизированный инструменты для измерения толщины пленок, оснащенный микроспотом (microspot) для измерений на пластине с топологией (patterned wafer). Размер пятна для эллипсометрических измерений 100 х 100 мкм². Программное обеспечение для распознавания образов (pattern recognition) в сочетании с программным обеспечением для картирования (mapping software) обеспечивает возможность измерение на пластинах с топологией.

Применение: Измерение толщины и коэффициента преломления как единичных слоев так и многослойных пленок в производстве.

SENDORO^® может применяться как в исследовательских целях так и в массовом производстве для измерения на подложках до 200 мм.

Особенности

• Высокая стабильность и точность при измерения

• Высокая скорость измерения образцов

• Измерение толщин пленок от 1 нм. до 10 000 нм. (ультра-тонкие пленки)

• Измерение оптических характеристик пленок

• Полностью автоматическое выравнивание образца при измерении (autoalign)

• Pattern recognition (опция) 

• Измерения на прозрачных и поглощающих подложках

• Управление нажатием кнопки

• Удобное программное обеспечение SpectraRay/4 

• Минимальная подготовка для инсталляции прибора

• Не требует высокой квалификации оператора

• Полный пакет предустановленных применений в микроэлектронике, фотовольтаике (солнечные элементы) и др.

• Дружественный интерфейс.
• Высокая скорость измерений (менее 2-8 сек в зависимости от пластины и применения)

• Мощный пакет программного обеспечения  SpectraRay/4 для спектроскопической эллипсометрии, позволяющий проводить измерение Ψ (psi),  Δ (delta) , tan(Ψ), cos(Δ), коэффициентов Фурье (S₁, S₂), коэффициенты отражения (R, Rp, R_s), коэффициенты отражения (T), оптические сфойства (n, k, n_e, n_o, k_e, k_o), свойство материалов, интенсивности рассеяния света как зависимость от длины волны, угла падения.  SpectraRay/4 обеспечивает получение данных, управление файлами, вывод в численном и/или графическом виде измеренных данных и спектров, анализ всех видов оптических спектральных функций, моделирование результатов и др. ПО включает в себя большую библиотеку оптических данных и готовых к использованию диэлектрических функций.

  Описание SpectraRay/4 от производителя - SpectraRay/4.pdf

• Опции:

  - рефлектометр 100х100 мкм²

  - Кассетная станция и моторизованные столики с компьютерным управлением для обрацов диаметром до 100мм, 150 мм, до 200 мм  и перемещением с высокой точностью для меппинга (картирования). Опция меппинга (моторизованный столик для образцов с компъютерным управлением) и ПО позволяет анализировать однородность распределения толщины пленки на образце. Данные могут быть выведены как 2D- и 3D- изображение распределения толщины с полной статистикой.

  - SEMI MES интерфейс