Ультраточная установка безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели ULTRA производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Ультраточная установка безмасковой лазерной литографии (генератор изображения) модели ULTRA предназначена для производства фотошаблонов или прямого экспонирования на пластине с очень высокой точностью. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.
Экспонирование по фоторезсту.
Для обеспечения высокоточного перемещения подложки генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки. Во время экспонирования положение координатного столика контролируется с помощью сверх точной интерферометрической системой высокого разрешения. Оптическая ситема смонтрована на тяжелом гранитном основании.
Камера микроклимата, с помощью которой подверживется стабильная температура в камере литографа для достижения наилучшх результатов, точности и стабильности параметров.
Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью оптического модулятора.
Система оснащена твердотельным лазером с диодной накачкой, работающим на длине волны 355 нм с мощностью до 15 Вт.
Установку оснащена автоматическим загрузчиком фотошаблонов (до 2 кассет разных размеров). Опционально можно оснастить установку загрузчиками SMIF или FOUP кассетами.
Опции:
Минимальый топологический размер до 0,5 мкм.
Шероховатость линии - 20 нм
Скорость письма от 325 до 580 мм2/мин в зависимости от режима
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов (опционально 17 х 17 дюймов)
Область экспонирования до 228 х 228 мм (опционально 400 х 400 мм)
Толщина подложки до 9 мм.
Источники излучения: Твердотельный лазер с диодной накачкой 355нм, 15 Вт.
| Режим работы | QX | FX | ||||
| Минимальный размер элемента, мкм |
0.5 | 0.7 | ||||
| Размер адресной сетки, нм | 5 | 10 | ||||
| Шероховатость края, (3σ), нм | 20 | 40 | ||||
| CD uniformity, (3σ), нм | 30 | 60 | ||||
| Сшивка (stitching), (3σ), нм | 20 | 60 | ||||
| Точность совмещения второя слоя, (3σ), нм | 100 | 100 | ||||
| Overlay Accuracy, 3σ, нм | 30 | 60 | ||||
| Точность позиционирования (Position Accuracy), [3σ, nm] | 40 | 100 | ||||
| Скорость экспонирования (рисования), мм2/мин | 325 | 580 | ||||
| Область письма (экспонирования), мм2 | 228 х 228 | |||||
Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Новое поколение систем прямого экспонирования - установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности в производстве, а также задачи исследования, НИОКР.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер 0,6 мкм (WM I) или 1 мкм (WM II).
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.
Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 х 200 опционально)
Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) - 500 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут (мин. топология 1 мкм).
Обратное совмещение (BSA) - опция.
Серая шкала - опция
Оптический автофокус - опция
Режим с высоким аспектным отношением - опция
Автоматическое совмещения по реперам на каждом из чипов - опция
Возможность установки двух источников - 405 нм и 375 нм.
Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA150 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Новое поколение систем прямого экспонирования - установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности в производстве, а также задачи исследования, НИОКР.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер 0,6 мкм (WM I) или 1 мкм (WM II).
Размер шаблонов или пластин до 9 х 9 дюймов.
Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм (до 200 х 200 опционально)
Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) - 500 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут (мин. топология 1 мкм).
Обратное совмещение (BSA) - опция.
Серая шкала - опция
Оптический автофокус - опция
Режим с высоким аспектным отношением - опция
Автоматическое совмещения по реперам на каждом из чипов - опция
Возможность установки двух источников - 405 нм и 375 нм.
Настольная модель mPG 101 лазерной безмасковой литографии производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер 0,6 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм.
Скорость письма от 1 до 90 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм.
Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale ExposureMode).
Настольная модель mPG 101 лазерной безмасковой литографии производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологический размер 0,6 мкм.
Сменные пишущие головки на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм.
Скорость письма от 1 до 90 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм.
Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale ExposureMode).
Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA100 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
MLA100 предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологически размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм
Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) - 1000 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут. (около 3 часов)
Скорость экспонирования 50 мм2/мин.
Растровое (бинарное) экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).
Установка безмаскового совмещения и экспонирования модели MLA100 производства Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия).
MLA100 предназначена для решения задач, не требующих очень высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др. Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.
Экспонирование по фоторезсту или фотоэмульсии.
Минимальный топологически размер 1,0 мкм.
Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.
Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм
Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) - 1000 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут. (около 3 часов)
Скорость экспонирования 50 мм2/мин.
Растровое (бинарное) экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
