Вакуумная установка Covap производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - компактное экономичное решение подходящее для множества применений вакуумного напыления для НИИОКР. 

Установки серии Covap предлагают компактное, экономичное решение подходящее для проведения процессов термического испарения и магнетронного распыления. Эта небольшого размера бюджетная установка позволит Вам легко найти место в Вашей лаборатории для ее установки.

Построенная по высоким стандартам, Covap конфигурируется устройством с обратной связью для управления процессами соосаждения, системой хранения рецептов и уникальной складной камерой для улучшенного доступа. Если Ваш процесс требует контроля окружающей среды, Covap сконструирована таким образом, что на нее можно установить новый или существующий перчаточный бокс.

Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)

Особенности

• Возможность обрабатывать на пластины диаметром до 100 мм с заданием различной скорости вращения держателя

• Вакуумный колпак системы позволяет легко открывать камеру для беспрепятственного доступа для снятия экранов (заслонок) и подготовки системы для следующего процесса.

• Конструкция готова к интегрированию в перчаточный бокс.

• Компактный дизайн 600 мм х 1000 мм (габариты размещения на полу)

• Возможность установки 2-ух или 4-х источников резистивного испарения

• Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.

• Процесс последовательного или параллельного (co-deposition) напыления

• Контроль вакуума и вакуумная система:

  - Автоматический форвакуумный насос

  - Сухие насосы (опция)

  - Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом

  - Пневматически воздушный фильтр

• Управление процессом осаждения:

  - теневая маска и выравнивание подложки

  - легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса

  - датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом

  - конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)

  - QCM - изолированный кварцевый датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников

  - Широкополосный источник 2,5 кВА для резистивное испарения обеспечивает возможность контроля и управления как для процессов требующих низких температур при напылении (органически пленки) так и для процессов напыления металлов, проходящих при высоких температурах.

  - изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.